Marka: NANOVAK

Model: NVTH-350

Açıklama: Vakumlu ortamda, bir ısıtıcı (rezistans, lazer, elektron bombardımanı vb.) ile buharlaştırılan kaplayıcı malzeme, kaplanacak olan malzeme üzerinde ince bir film katmanı halinde biriktirilir. PVD, depolama tekniği, katı haldeki ham maddenin yüksek enerji ile plazma haline getirilerek, kontrollü olarak kaplanacak malzemenin üzerine yapıştırılması işlemi olarak özetlenebilir. Bilimsel anlamda ilk olarak 19. yüzyıl sonlarında çalışmalara başlanmış, vakum teknolojisindeki gelişmeler ile bu çalışmalar hız kazanmıştır. PVD depolama tekniğinde, kaplanacak malzeme yüksek vakumlu bir kabine yerleştirilir. ve yüksek enerji ile iyonlaştırılmış ve reaktif gazlarla oluşturulmuş plazma ile kaplanır. Kaplamanın homojen olabilmesi için kaplanacak malzemeye maksimum hareket kazandırılır. Yarıiletken endüstrisinin gelişimi ile kendine endüstride yer bulabilen PVD tekniği, günümüzde pek çok farklı alanda kullanılmaktadır. Mikroelektronik, tıp, dekoratif amaçlı, korozyona karşı direnç gerektiren uygulamalar vb. alanlarında kullanılmaktadır. PVD teknolojisinin CVD’ye göre en büyük avantajı sert metal ve yüksek hız çeliklerinin özelliklerini etkilemeden düşük sıcaklıklarda kaplama yapılabilmesidir. CVD’de gerekli olan yüksek kaplama sıcaklıkları 850-1000 santigrat derece, normalde çeliklerin temperlenme sıcaklıklarını aşmaktadır. Bu nedenle takım çeliklerinde CVD kullanmak imkansızdır. Sert metal altlıkların, özellikle tokluk gibi özellikleri sıcaklıklarında süreye bağlı olarak düşmektedir. Diğer yandan PVD tekniği 200-500 santigrat derece aralığında gerçekleştirilir. Bu sıcaklık aralığı takım uygulamalarında kullanılan altlıkların özelliklerini etkimez.

Sorumlu: Öğr. Görevlisi İlker TÖRÜN (İletişim: 0352 207 66 66 / 13812) (e-mail: ilkertorun@erciyes.edu.tr)