ICP-CVD

Marka: ProTHErm

Model: NVPECVD-01

Açıklama: Genel olarak karbon bileşiklerinin sıcak bir fırın içerisinde termal parçalanmasına dayanan kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemi (Pierson, 1999) uzun yıllardır bilinen ve uygulanan bir yöntem olmakla beraber ilk olarak Yacaman ve arkadaşları tarafından karbon nanotüp üretimi için kullanılmıştır. Yöntemde karbonca zengin gaz karışımı bir inert gaz ile karıştırılarak sisteme beslenir. Gerekli olan katalizör ya katı halde bir substrat yüzeyine kaplanarak sistem içine yerleştirilir ya da besleme gazları ile birlikte sisteme gaz fazında taşınabilir. Karbon kaynağı ve katalizör oldukça çeşitlidir. Sıcaklığın diğer üretim yöntemlerine göre daha düşük olması, üretim maliyeti açısından oldukça önemlidir. Üretim sırasında katalizör, destek katı, reaktöre beslenen gazlar, gazların akış hızları, sentez sıcaklığı ve basıncı gibi parametreler değiştirilerek elde edilen nanotüpün uzunluk, çap ve duvar sayısını belirleme çalışmaları yoğun bir şekilde devam etmektedir. CVD yöntemi ile karbon nanotüp üretiminin en önemli avantajı daha önce de bahsedildiği gibi oldukça ılıman koşullarda gerçekleşmesidir. Yöntemin bir diğer önemli avantajı ise çok fazla sayıda karbon kaynağı ve katalizör kullanma seçeneği sunmasıdır.

Sorumlu: Dr. Öğr. Üyesi Sami Pekdemir  E-posta : samipekdemir@erciyes.edu.tr

İkinci Sorumlu: Öğr. Görevlisi İlker TÖRÜN (İletişim: 0352 207 66 66 / 13812) (e-posta: ilkertorun@erciyes.edu.tr)